浅析等离子清洗机去除金属氧化物原理

   等离子清洗机的清洗原理：等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四中状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。

等离子清洗机去除金属氧化物

化学清洗:表面反应以化学反应为主的等离子体清洗，又称PE。

例：O2＋e－→ 2O※ +e－     O※＋有机物→CO2+H2O

从反应式可见，氧等离子体通过化学反应可使非挥发性有机物变成易挥发的H2O和CO2。

例：H2+e-→2H※+e-      H※+非挥发性金属氧化物→金属＋H2O

从反应式可见，氢等离子体通过化学反应可以去除金属表面氧化层，清洁金属表面。

物理清洗：表面反应以物理反应为主的等离子体清洗，也叫溅射腐蚀（SPE）。

例：Ar＋e-→Ar++2e-       Ar++沾污→挥发性沾污

Ar+在自偏压或外加偏压作用下被加速产生动能，然后轰击被清洗工件表面，一般用于去除氧化物、环氧树脂溢出或是微颗粒污染物，同时进行表面能活化。

   等离子设备主要适用于各种材料的表面改性处理：表面清洗、表面活化、表面刻蚀、表面接枝、表面沉积、表面聚合以及等离子体辅助化学气相沉积：

　　表面改性：

　　纸张粘合，塑料粘接、金属锡焊、电镀前的表面处理

　　表面活化：

　　生物材料的表面修饰，印刷涂布或粘接前的表面处理，如纺织品的表面处理

　　表面刻蚀：【真空等离子设备】

　　硅的微细加工，玻璃等太阳能领域的表面刻蚀处理，医疗器皿表面刻蚀处理

　　表面接枝：

　　材料表面特定基团的产生和表面活化的固定

　　表面沉积：

　　疏水性或亲水性层的等离子体聚合沉积

　　广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域，是企业、科研院所进行等离子体表面处理的理想设备。